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英特尔全球投入80亿实施45纳米升

当前栏目:新闻|来源:网络转载||发布时间:2020-08-24 10:58:02|阅读:

英特尔的芯片工厂位于新墨西哥州的里奥兰乔。

本轮技术改造完成后,工厂将于明年下半年开始向45纳米工艺转移。

英特尔已经表示,将分别投资30亿美元和35亿美元在钱德勒、亚利桑那、美国和以色列建设芯片工厂,以提升芯片工厂的技术。

英特尔最近表示,它仍将按原计划在今年下半年采用45纳米技术生产芯片,而它的竞争对手amd则落后一点,将在2008年年中推出45纳米芯片。

芯片线宽和晶圈面积是半导体产业升级的两个主要方向。较小的线宽意味着在同一晶片上可以生产更多的内核,这不仅降低了成本,还降低了芯片的功耗。目前,45纳米线宽是半导体行业最先进的制造技术。


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